Новый метод 3D-печати в наномасштабе совмещает электронные пучки и лед

Исследователи из Чжэцзянского университета в Китае разработали новый доступный метод 3D-производства в наномасштабе с помощью льда и электронных пучков. Эта разработка — усовершенствованный метод стандартной литографии с помощью катодного луча, e-beam lithography (EBL). Технология EBL, как правило, применяется для производства небольших партий электронных деталей, таких как полупроводники.

Обычно в процесс EBL входит более 10 отдельных шагов, тогда как новый метод iEBL с применением льда подразумевает в два раза меньшее количество стадий. Упростив технологию, исследователи рассчитывают сделать доступнее 3D-печать в наномасштабах, что, вероятно, повлечет за собой инновации в электронике, медицине и других отраслях.

В сущности, EBL — это сочетание производства с помощью форм и 3D-печати, процесс начинают с подачи поддерживающего материала, который определяет форму каждого слоя. Печатную платформу покрывают фоторезистом, светочувствительным полимером, на части которого затем воздействуют светом — эти участки растворяются, оставляя форму для первого слоя.

Чтобы изменить форму предмета, каждый раз необходимо удалять и обновлять фоторезист — например, для 3D-печати пирамиды каждый новый слой должен быть меньше предыдущего. Технология также сокращает время калибровки слоев. Еще одно преимущество iEBL перед другими методами 3D-печати в наномасштабе — более высокое разрешение. По словам авторов исследования, новая технология осуществляется за счет меньшего количества шагов и почти свободна от загрязнений.